Combining focused ion beam patterning and atomic layer deposition for nanofabrication
Combining focused ion beam patterning and atomic layer deposition for nanofabrication
Tallennettuna:
Genre | |
---|---|
Ulkoasu |
1 verkkoaineisto (63 sivua) : kuvitettu |
Kieli |
englanti |
Alkuteoksen kieli |
englanti |
Huomautukset |
Artikkeliväitöskirjan yhteenveto-osa. |
Julkaisija |
Helsinki :
University of Helsinki,
2018.
|
Opinnäyte | Väitöskirja : Helsingin yliopisto, 2018 |
Luokitus | |
Aiheet | |
Lisätiedot | Zhongmei Han |
Painettu |
978-951-51-4378-5 |
ISBN |
978-951-51-4379-2 PDF |
Pääsy | Aineisto on vapaasti saatavissa |
Hae kokoteksti |