Quality, microstructural refinement and stability of atomic-layer-deposited Aluminum Nitride and Aluminum Oxide films
Quality, microstructural refinement and stability of atomic-layer-deposited Aluminum Nitride and Aluminum Oxide films
Sparad:
| Genre | |
|---|---|
| Fysisk beskrivning |
69 sivua, 76 sivua useina numerointijaksoina : kuvitettu, taulukoita ; 25 cm Yhteenveto-osa julkaistu myös verkkoaineistona |
| Språk |
engelska |
| Originalverkets språk |
engelska |
| Språk i abstract |
eng fin |
| Beskrivning |
Nimiösivulla myös: Aalto University, School of Electrical Engineering, Department of Electrical Engineering and Automation, Unit of Electronics Integration and Reliability. Artikkeliväitöskirjan yhteenveto-osa ja 5 eripainosta. |
| Förlag |
Helsinki :
Aalto University,
2018.
|
| Lärdomsprov | Väitöskirja : Aalto-yliopisto, sähkötekniikan ja automaation laitos, 2018 |
| Serie | Aalto University publication series, Doctoral dissertations, ISSN 1799-4934; 2018, 151. |
| Klassifikation | |
| Ämnen | |
| Tillverkare | Helsinki : Unigrafia Oy |
| Mer information | Mikael Broas |
| Verkkoaineisto (yhteenveto-osa, PDF) |
978-952-60-8130-4 |
| ISBN |
978-952-60-8129-8 nidottu |
| Hämta fulltext | |