Syntymäaika	1988
Syntymäpaikka	Rovaniemi, Suomi
Ammatti	tutkija
Toimiala	elektroniikka-ala luotettavuus
Tunnisteet	0000000484211525 (isni) http://urn.fi/URN:NBN:fi:au:finaf:000183808 (finaf)
Lähteet	Quality, Microstructural Refinement and Stability of Atomic-layer-deposited Aluminum Nitride and Aluminum Oxide Films, [2018]
Yhteys ryhmään	Aalto-yliopisto. Sähkötekniikan korkeakoulu (-)