Quality, microstructural refinement and stability of atomic-layer-deposited Aluminum Nitride and Aluminum Oxide films
Quality, microstructural refinement and stability of atomic-layer-deposited Aluminum Nitride and Aluminum Oxide films
Saved in:
| Genre | |
|---|---|
| Physical Description |
69 sivua, 76 sivua useina numerointijaksoina : kuvitettu, taulukoita ; 25 cm Yhteenveto-osa julkaistu myös verkkoaineistona |
| Language |
English |
| Language of Original Work |
English |
| Language of Abstract |
eng fin |
| Item Description |
Nimiösivulla myös: Aalto University, School of Electrical Engineering, Department of Electrical Engineering and Automation, Unit of Electronics Integration and Reliability. Artikkeliväitöskirjan yhteenveto-osa ja 5 eripainosta. |
| Published |
Helsinki :
Aalto University,
2018.
|
| Dissertation Note | Väitöskirja : Aalto-yliopisto, sähkötekniikan ja automaation laitos, 2018 |
| Series | Aalto University publication series, Doctoral dissertations, ISSN 1799-4934; 2018, 151. |
| Classification | |
| Subjects | |
| Manufacturer | Helsinki : Unigrafia Oy |
| Additional Information | Mikael Broas |
| Verkkoaineisto (yhteenveto-osa, PDF) |
978-952-60-8130-4 |
| ISBN |
978-952-60-8129-8 nidottu |
| Get full text | |