Quality, microstructural refinement and stability of atomic-layer-deposited Aluminum Nitride and Aluminum Oxide films
Quality, microstructural refinement and stability of atomic-layer-deposited Aluminum Nitride and Aluminum Oxide films
Tallennettuna:
Genre | |
---|---|
Ulkoasu |
69 sivua, 76 sivua useina numerointijaksoina : kuvitettu, taulukoita ; 25 cm Yhteenveto-osa julkaistu myös verkkoaineistona |
Kieli |
englanti |
Alkuteoksen kieli |
englanti |
Tiivistelmän kieli |
eng fin |
Huomautukset |
Nimiösivulla myös: Aalto University, School of Electrical Engineering, Department of Electrical Engineering and Automation, Unit of Electronics Integration and Reliability. Artikkeliväitöskirjan yhteenveto-osa ja 5 eripainosta. |
Julkaisija |
Helsinki :
Aalto University,
2018.
|
Opinnäyte | Väitöskirja : Aalto-yliopisto, sähkötekniikan ja automaation laitos, 2018 |
Sarja | Aalto University publication series, Doctoral dissertations, ISSN 1799-4934; 2018, 151. |
Luokitus | |
Aiheet | |
Valmistaja | Helsinki : Unigrafia Oy |
Lisätiedot | Mikael Broas |
Verkkoaineisto (yhteenveto-osa, PDF) |
978-952-60-8130-4 |
ISBN |
978-952-60-8129-8 nidottu |
Hae kokoteksti |