Atomic layer deposition of noble metal thin films
Atomic layer deposition of noble metal thin films
Tallennettuna:
Genre | |
---|---|
Ulkoasu |
71, [49] sivua : kuvitettu ; 25 cm Myös verkkoaineistona |
Kieli |
englanti |
Alkuteoksen kieli |
englanti |
Huomautukset |
Artikkeliväitöskirjan yhteenveto-osa ja 8 eripainosta. |
Julkaisija |
Helsinki :
[Titta Aaltonen],
2005
|
Opinnäyte | Väitöskirja Helsingin yliopisto |
Luokitus | |
Aiheet | |
Valmistaja | (Yliopistopaino) |
Lisätiedot | Titta Aaltonen |
ISBN |
952-91-8460-3 nidottu 952-10-2390-2 PDF |
Hae kokoteksti |