TY  - GEN
TY  - GEN
T1  - Quality, microstructural refinement and stability of atomic-layer-deposited Aluminum Nitride and Aluminum Oxide films
T2  - Aalto University publication series
A1  - Broas, Mikael, 1988- kirjoittaja
LA  - eng
PP  - Helsinki
PB  - Aalto University
YR  - 2018
UL  - https://kansalliskirjasto.finna.fi/Record/fikka.5397506
AB  - Abstract.
AB  - Atomikerroskasvatettujen alumiininitridi- ja alumiinioksidikalvojen laatu, mikrorakenteellinen muokkaus ja stabiilisuus.
NO  - Nimiösivulla myös: Aalto University, School of Electrical Engineering, Department of Electrical Engineering and Automation, Unit of Electronics Integration and Reliability.
NO  - Artikkeliväitöskirjan yhteenveto-osa ja 5 eripainosta.
SN  - 978-952-60-8129-8 nidottu
KW  - atomikerroskasvatus
KW  - lämpökäsittely
KW  - ohutkalvot
ER  -